半导体工业需要高纯度和高洁净度的氮气。
低温空气分离装置可以将空气中的一系列杂质在精馏过程中清除, 因此理所当然地成为制取高纯氮的方法。但是为了适应半导体工业的特殊需要, 还必须发展一种新的空气分离装置, 并在半导体工厂的旁边就地生产,以洁净管道直接输送,才能保证所需要的高纯度和高洁净度。本文主要介绍氮气发生器的主要特征。
一 低温氮气发生器
低温氮气发生器流程。 空气被压缩到特定的压力后,送入一组双层床的吸附器以清除水份和CO₂:,然后被引入冷箱中的主热交换器, 并进入精馏塔, 在此分离O₂:
1.低温氮气发生器的主要特征
N₂中所含CO₂和H₂O可以极低。N₂中仅有极低的氧含量, 制取0.01ppm(10ppb) 的N₂: 是不困难的。所得的N₂洁净度很高, 因为大气 中的颗粒经过精馏塔中液体回流的洗涤, 已大部分清除。单塔精馏可以生产带压的N₂:产品不需经压缩而遭受再污染,原料空气的压 力可随用户要求以N₂:产品压力而调节,最高可达0.896MP。本装置根据系统的冷量平衡可以生产一小部分高纯液N₂:充入贮槽用作调峰应用或作为贮备。装置的操作可以交替更换,例如根据用途降低N₂:压力或不生产液N₂等。
2 结论
经典的低温空气分离过程十分适用于高纯N₂:的生产但必须注意到一系列的特殊要求。在设计制造和安装运行这类装置时要求具备大量的实践经验坚实的研究和开发方面的努力,并运用“ 超纯”装置和程序控制器。
以上内容仅供参考。
